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更新时间: 2024-05-28
岚县高纯气体的主要用途有哪些
碳氟化合物——四氟化碳、六氟乙烷、全氟丙烷、全氟环丁烷和全氟戊烷等。 主要用途：
（一） 四氟化碳 作为电子工业中等离子蚀刻工艺中常用的工作气体，是二氧化硅、氮化硅等薄膜的等离子蚀刻剂。也用于液**体和低温制冷剂。
（二） 六氟乙烷 在等离子工艺中作为二氧化硅和磷硅玻璃的干蚀气体，也可作为制冷剂使用。
（三） 全氟丙烷 电子工业等离子蚀刻工艺中，作为二氧化硅膜、磷硅玻璃膜的蚀刻气体。在眼外科视网膜剥离手术中也有应用。
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