岚县氧气销售讲解高纯特种气体有哪些及用途

特种气体在现代生活中运用广泛，工厂、医疗、食品、娱乐等都涵盖，下面介绍下特种气体包括些什么：1

1、氮气-N2，纯度要求>99．999%，用作标准气体、在线仪表标准气、校正气、零点气、平衡气；用于半导体器件制备工艺中外延、扩散、化学气相淀积、离子注入、等离子干刻、光刻，退火 搭接、烧结等工序；电器、食品包装，化学等工业也要用氮气。

2、氧气-O2,>99．995％，用作标准气体、在线仪表标准气体、校正气、零点气；还可用于医疗气，在半导体器件制备工艺中用于热氧化，扩散、化学气相淀积、等离子干刻等工序，以及用于光导纤维的制备。

3、氩气-Ar，>99．999％，用作标准气体、零点气、平衡气；甩于半导体器件制备工艺中晶体生长、热氧化、外延，扩散、氮化，喷射，等离子干刻、载流、退火搭接，烧结等工序；特种混合气与工业混合气也使用氩。

4、氢气-H2,> 99.999%，用作标准气体、零点气、平衡气、校正气、在线仪表标准气; 在半导体器件制备工艺中用于晶体生长，热氧化，外延、扩散、多晶硅、钨化、离子注入、载流、烧结等工序；在化学，冶金等工业中也有用。

5、氦气-He，>99.999% ，用作标准气体、零点气 平衡气，校正气、医疗气、用于半导体器件错备工艺中晶体生长，等离子干刻 载流等工序；另外，特种混合气与工业混台气也常用．

6、**-Cl2，>99.86 ％，用作标准气体，校正气,用于半导体器件制备工艺中晶体生长、等离子干刻、热氧化等工序；另外，用于水净化，纸浆与纺织品的漂白、工业废品、污水、 游泳池的卫生处理，制备许多化学产品。